Spoločnosť Samsung Electronics urobila v priebehu dvoch dní dva kroky, ktoré poukazujú na rovnaký problém: udržať svoje výrobné linky v oblasti pamätí a zlievarní na špičke, keďže dopyt po umelej inteligencii prevyšuje konvenčné škálovanie. 8. septembra spoločnosti Samsung a ASML oznámili rozšírené partnerstvo, v rámci ktorého spoločnosť Samsung do roku 2028 uvedie litografiu s vysokou numerickou identitou v extrémnom ultrafialovom (EUV) spektre od spoločnosti ASML do veľkoobjemovej výroby DRAM a pripojí sa k úsiliu tohto odvetvia o prechod zo 6-palcových na 12-palcové fotomasky. O deň neskôr, na štátnom summite Južnej Kórey a Francúzska v Paríži, spoločnosť Samsung oznámila strategické partnerstvo so spoločnosťou Mistral AI s cieľom prevádzkovať modely francúzskeho vývojára v rámci svojich čipových operácií spolu s vedúcou investíciou do kola série D spoločnosti Mistral.
Samsung High NA EUV pre DRAM do roku 2028 a prechod na 12-palcovú fotomasku
Spoločnosť Samsung uviedla, že plánuje do roku 2028 zaviesť systémy ASML s vysokou numerickou apertúrou (High NA) EUV do budúcej veľkoobjemovej výroby DRAM, čo obe spoločnosti opisujú ako prvé takéto nasadenie v tomto odvetví. Vysoká numerická apertúra (High NA) zvyšuje numerickú apertúru projekčnej optiky z 0.33 na 0.55 a presnejšie rozlíšenie má rozšíriť plán škálovania DRAM zjednodušením procesných krokov, ktoré dnes vyžadujú viacero prechodov vytvárania vzorov. Spoločnosť Samsung na FMS 2026 vo svojom pláne pre 3D pamäte načrtla, kam toto škálovanie smeruje , a vysoká NA je litografická časť, ktorú je potrebné dokončiť ako prvú.
Súbežne sa spoločnosť Samsung pripája k priemyselnej iniciatíve na vývoj 12-palcovej platformy fotomasiek pre EUV s vysokou numerickou apertúrou (High NA). 6-palcová maska je štandardom už desaťročia, ale systémy s vysokou numerickou apertúrou používajú anamorfnú optiku, ktorá zmenšuje expozičné pole na polovicu, takže tlač matrice plnej veľkosti na 6-palcový kríž znamená spojenie dvoch expozícií. Spoločnosti ASML a Samsung tvrdia, že väčší 12-palcový formát by mal zvýšiť produktivitu výroby, znížiť náklady na výrobu čipov a odstrániť tieto obmedzenia spájania, čo umožní výrobcom používať High NA bez zníženia priepustnosti. Spoločnosť Samsung uvádza, že bude spolupracovať s priemyselnými partnermi na vývoji technológií masiek a podpornej infraštruktúry, ktorú nový formát vyžaduje, pričom bude čerpať zo svojich skúseností s používaním EUV v oblasti výroby pamätí aj zlievarní.
„Éra umelej inteligencie transformuje polovodičový priemysel a zvyšuje dôležitosť technologických inovácií v celom hodnotovom reťazci,“ povedal Young Hyun Jun, podpredseda predstavenstva a generálny riaditeľ spoločnosti Samsung Electronics. „Ďalším posilňovaním našej spolupráce so spoločnosťou ASML pomáhame položiť základy pre ďalšiu generáciu inovácií v oblasti umelej inteligencie a polovodičov.“ Prezident a generálny riaditeľ spoločnosti ASML Christophe Fouquet označil spoločnosť Samsung za „jedného z najdôležitejších inovačných partnerov spoločnosti ASML za mnoho rokov“ a obe spoločnosti uviedli, že očakávajú, že budú naďalej skúmať spoluprácu v oblasti pokročilých pamätí a nových výrobných prístupov.
Modely umelej inteligencie Mistral bežiace lokálne v továrňach spoločnosti Samsung
Druhé oznámenie zavádza modely spoločnosti Mistral, vrátane jej vlajkovej lode Mistral Large, do prevádzky v rámci polovodičových operácií spoločnosti Samsung. Spoločnosť Samsung uvádza, že integruje služby a riešenia umelej inteligencie od spoločnosti Mistral s cieľom vyvíjať prispôsobené lokálne modely pre to, čo nazýva infraštruktúrou riadenou inteligenciou, pričom lokálne nasadenie bude zvolené tak, aby procesná technológia a prevádzkové údaje zostali výlučne v rámci vlastnej polovodičovej infraštruktúry spoločnosti Samsung.
Uvedené ciele sú skôr praktické problémy výroby než abstraktný návrh čipov. Spoločnosť Samsung uvádza, že na detekciu defektov a optimalizáciu zariadení použije cielené modely s cieľom zrýchliť vývojové cykly, zvýšiť presnosť výroby a stabilizovať výťažnosť svojich pokročilých pamäťových a logických čipov. Spoločnosť tvrdí, že keďže procesné uzly sú čoraz zložitejšie, rýchla analýza údajov vo vnútri továrne sa stáva nevyhnutnou a systém Mistral má zmeniť spôsob, akým sa jej čipy navrhujú a vyrábajú.
„Rastúca zložitosť návrhu a výroby čipov umelej inteligencie si vyžaduje neustále inovácie v polovodičových technológiách,“ povedal Jun, tentoraz vedúci divízie riešení zariadení spoločnosti Samsung. Spoluzakladateľ a generálny riaditeľ spoločnosti Mistral, Arthur Mensch, povedal, že spoločnosť je „hrdá na to, že môže podporovať spoločnosť Samsung Electronics svojimi odbornými znalosťami v oblasti elektroniky a polovodičov a pomáhať zlepšovať spôsob návrhu a výroby čipov.“
Spoločnosť Samsung tiež viedla kolo financovania série D spoločnosti Mistral, pričom získala to, čo opisuje ako strategický podiel na podporu dlhodobej technologickej spolupráce. Spoločnosť Samsung nezverejnila výšku kola ani svoj podiel. Táto investícia zaraďuje Samsung po bok jej vlastného dodávateľa litografie na tabuľke kapitalizácie spoločnosti Mistral: ASML viedla sériu C spoločnosti Mistral presne o rok skôr, v septembri 2025, s investíciou 1.3 miliardy eur za približne 11-percentný podiel. Spoločnosť Mistral si tiež buduje vlastnú infraštruktúru s továrňami Mistral Compute AI na NVIDIA GB300 NVL72 a prehlbuje spoluprácu so spoločnosťou Dell na podnikových nasadeniach.
Tieto dve oznámenia spolu ukazujú nákupnú schopnosť spoločnosti Samsung na oboch koncoch výrobného procesu: v oblasti litografie, ktorá určuje, aká malá môže byť ďalšia bunka DRAM, a v oblasti modelov, ktoré chce sledovať, keď sa tieto nástroje spustia.
Amazonka