Samsung Electronics heeft in twee dagen tijd twee belangrijke stappen gezet die beide op hetzelfde probleem wijzen: het behouden van de nieuwste ontwikkelingen op het gebied van geheugen en chipfabricage, nu de vraag naar AI de conventionele schaalvergroting overstijgt. Op 8 september kondigden Samsung en ASML een uitgebreid partnerschap aan, waarbij Samsung de High NA extreem ultraviolette (EUV) lithografie van ASML tegen 2028 in grootschalige DRAM-productie zal inzetten en zich zal aansluiten bij de industriële inspanning om van 6-inch naar 12-inch fotomaskers over te stappen. Een dag later, tijdens de top tussen Zuid-Korea en Frankrijk in Parijs, kondigde Samsung een strategisch partnerschap aan met Mistral AI om de modellen van de Franse ontwikkelaar lokaal te draaien binnen de chipproductie, samen met een leidende investering in de Series D-financieringsronde van Mistral.
Samsung introduceert in 2028 EUV met hoge NA voor DRAM en de overgang naar 12-inch fotomaskers.
Samsung zegt dat het van plan is om ASML's High NA EUV-systemen tegen 2028 te introduceren in de toekomstige massaproductie van DRAM, wat volgens beide bedrijven de eerste dergelijke implementatie in de industrie is. High NA verhoogt de numerieke apertuur van de projectieoptiek van 0.33 naar 0.55, en de hogere resolutie is bedoeld om de DRAM-schaalbaarheidsroadmap te versnellen door processtappen te vereenvoudigen die momenteel meerdere patroonvormingsgangen vereisen. Samsung heeft tijdens FMS 2026 in zijn 3D-geheugenroadmap uiteengezet waar die schaalbaarheid naartoe gaat , en High NA is het lithografieonderdeel dat als eerste moet worden voltooid.
Tegelijkertijd sluit Samsung zich aan bij het industrie-initiatief om een 12-inch fotomaskerplatform te ontwikkelen voor EUV met een hoge numerieke apertuur (NA). Het 6-inch masker is al decennialang de standaard, maar systemen met een hoge NA gebruiken anamorfische optiek die het belichtingsveld halveert. Het printen van een chip op ware grootte op een 6-inch reticle betekent dus dat twee belichtingen aan elkaar moeten worden geplakt. ASML en Samsung verwachten dat het grotere 12-inch formaat de productiviteit van de fabriek zal verhogen, de productiekosten zal verlagen en de beperkingen van het aan elkaar plakken van belichtingen zal wegnemen. Hierdoor kunnen fabrikanten systemen met een hoge NA gebruiken zonder verlies aan doorvoer. Samsung zegt dat het met industriële partners zal samenwerken om de maskertechnologieën en de ondersteunende infrastructuur te ontwikkelen die het nieuwe formaat vereist, gebruikmakend van zijn ervaring met EUV in zowel geheugen- als foundryproductie.
“Het AI-tijdperk transformeert de halfgeleiderindustrie en vergroot het belang van technologische innovatie in de gehele waardeketen”, aldus Young Hyun Jun, vicevoorzitter en CEO van Samsung Electronics. “Door onze samenwerking met ASML verder te versterken, helpen we de basis te leggen voor de volgende generatie AI- en halfgeleiderinnovatie.” Christophe Fouquet, president en CEO van ASML, noemde Samsung “al jarenlang een van ASML’s belangrijkste innovatiepartners” en beide bedrijven gaven aan dat ze de samenwerking op het gebied van geavanceerd geheugen en nieuwe productiemethoden willen blijven onderzoeken.
Mistral AI-modellen draaien lokaal in de fabrieken van Samsung.
De tweede aankondiging betreft de inzet van Mistral-modellen, waaronder het vlaggenschip Mistral Large, binnen de halfgeleideractiviteiten van Samsung. Samsung zegt dat het de AI-diensten en -oplossingen van Mistral zal integreren om op maat gemaakte modellen te ontwikkelen voor wat het een intelligentiegestuurde infrastructuur noemt. De keuze voor implementatie op locatie zorgt ervoor dat procestechnologie en operationele data volledig binnen de eigen halfgeleiderinfrastructuur van Samsung blijven.
De genoemde doelen hebben betrekking op praktische problemen in de fabriek, en niet op abstract chipontwerp. Samsung zegt dat het gerichte modellen zal toepassen op defectdetectie en optimalisatie van apparatuur, met als doel de ontwikkelingscycli te versnellen, de productieprecisie te verbeteren en de opbrengst te stabiliseren voor zijn geavanceerde geheugen- en logische chips. Naarmate de procestechnologieën complexer worden, stelt het bedrijf, wordt snelle data-analyse binnen de fabriek essentieel, en de Mistral-stack is bedoeld om de manier waarop chips worden ontworpen en geproduceerd te veranderen.
"De toenemende complexiteit van het ontwerp en de productie van AI-chips vereist continue innovatie in halfgeleidertechnologieën", aldus Jun, ditmaal als hoofd van Samsungs Device Solutions Division. Arthur Mensch, medeoprichter en CEO van Mistral, zei dat het bedrijf "er trots op is Samsung Electronics te ondersteunen met onze expertise in elektronica en halfgeleiders, en zo bij te dragen aan de verbetering van het ontwerp en de productie van chips."
Samsung leidde ook de Series D-financieringsronde van Mistral en nam een strategisch aandelenbelang om de technologische samenwerking op lange termijn te ondersteunen. Samsung maakte de omvang van de ronde en het aandeel niet bekend. Door de investering komt Samsung, net als zijn eigen lithografieleverancier, in de aandeelhoudersstructuur van Mistral te staan: ASML leidde precies een jaar eerder, in september 2025, de Series C-ronde van Mistral met een investering van 1.3 miljard euro voor een belang van circa 11 procent. Mistral bouwt ook aan zijn eigen infrastructuur, met Mistral Compute AI-fabrieken op NVIDIA GB300 NVL72 en een intensievere samenwerking met Dell voor implementaties in de zakelijke markt.
De twee aankondigingen samen laten zien dat Samsung aan beide kanten van de productielijn inkoopt: de lithografie die bepaalt hoe klein de volgende DRAM-cel kan worden, en de modellen die het bedrijf wil laten bewaken zodra die machines in gebruik zijn.
Amazon